シリコン中の酸素原子<sup>16</sup>Oの外方拡散と内方拡散

BARCZ A; PANAS A; JAKIELA R

文献

J-GLOBAL ID：200902210461919614 整理番号：04A0863891

シリコン中の酸素原子¹⁶Oの外方拡散と内方拡散

Out- and in-diffusion of oxygen ¹⁶O in silicon

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巻： 19 号： 11 ページ： 1311-1314 発行年： 2004年11月
JST資料番号： E0503B ISSN： 0268-1242 CODEN： SSTEET 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

浮遊帯域法によって成長させたシリコン(FZ-Si)に関する酸...

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固体中の拡散一般

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シリコン中の酸素原子16Oの外方拡散と内方拡散

シリコン中の酸素原子¹⁶Oの外方拡散と内方拡散