文献

J-GLOBAL ID：200902212132497647   整理番号：08A0919762

マルチロッド電極を使用して高い圧力で作製した大面積のSiH₄/H₂のVHFプラズマ

Large area SiH₄/H₂ VHF plasma produced at high pressure using multi-rod electrode

著者 (6件)： YAMAUCHI Yasuhiro (Nagasaki Shipyard & Machinery Works, Mitsubishi Heavy Industries Ltd., Isahaya, Nagasaki, 854-0065 Japan) ,  TAKEUCHI Yoshiaki (Nagasaki Res. & Dev. Center, Mitsubishi Heavy Industries Ltd., Fukahori, Nagasaki, 851-0392 Japan) ,  TAKATSUKA Hiromu (Nagasaki Shipyard & Machinery Works, Mitsubishi Heavy Industries Ltd., Isahaya, Nagasaki, 854-0065 Japan) ,  KAI Yuichi (Interdisciplinary Graduate School of Engineering Sciences, Kyushu Univ., Kasuga, Fukuoka 816-8580 Japan) ,  MUTA Hiroshi (Interdisciplinary Graduate School of Engineering Sciences, Kyushu Univ., Kasuga, Fukuoka 816-8580 Japan) ,  KAWAI Yoshinobu (Res. Inst. for Applied Mechanics, Kyushu Univ., Kasuga, Fukuoka 816-8580 Japan)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 202  号： 22-23  ページ： 5668-5671  発行年： 2008年08月30日 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： マルチロッド電極を使用して,1200mm×115mmのVHF SiH₄/H₂プラズマを作り,高い圧力でのVHFプラズマの特性を,加熱したラングミュアプローブで測定した。VHF電源の周波数は60MHz,出力は最大450Wとした。圧力は1Torrから3Torrの範囲とした。圧力を増加すると,SiH₄/H₂の濃度比に関係なく,イオン飽和電流密度は減少した。電子温度は,高い圧力では増加する傾向があった。さらに,VHFの出力が増えたときは,高い圧力では壁電位は減少した。Copyright 2008 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： VHF【周波数】 ,  *プラズマ ,  *高周波放電 ,  放電ギャップ ,  *シラン ,  水素 ,  電極 ,  *圧力効果 ,  Langmuir探針 ,  *イオン電流 ,  飽和 ,  電流密度 ,  *電子温度 ,  プラズマCVD ,  *プラズマ診断 ,  間隙 ,  長さ ,  幾何学量
準シソーラス用語： Langmuirプローブ ,  圧力依存性

分類 (1件)： プラズマ診断  (BJ02090L)

タイトルに関連する用語 (7件)： マルチ ,  ロッド ,  作製 ,  大面積 ,  SiH4 ,  H2 ,  VHFプラズマ