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J-GLOBAL ID：200902212415638280   整理番号：04A0794089

パルスレーザ堆積法によるBi(Fe_xAl_1-x)O₃薄膜の合成とその構造キャラクタリゼーション

Synthesis of Bi(Fe_xAl_1-x)O₃ Thin Films by Pulsed Laser Deposition and Its Structural Characterization

著者 (4件)： OKADA M (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  YOSHIMURA T (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  ASHIDA A (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  FUJIMURA N (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 43  号： 9B  ページ： 6609-6612  発行年： 2004年09月30日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 新しい無鉛圧電材料としてペロブスカイトBiAlO<sub>3...

シソーラス用語： *ビスマス化合物 ,...
準シソーラス用語： BiAlO₃ ,...

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分類 (2件)： 圧電気,焦電気,エレクトレット  (BM05040M) ,  薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

引用文献 (11件)：

• 1) R. A. Wolf and S. Trolier-McKinstrya: J. Appl. Phys. 95 (2003) 1397.
• 2) H. Maiwa, N. Iizawa, D. Togawa, T. Hayashi, W. Sakamoto, M. Yamada and S. Hirano: Appl. Phys. Lett. 82 (2003) 1760.
• 3) Y. Yamashita, Y. Hosono, K. Harada and N. Ichinose: Jpn. J. Appl. Phys. 39 (2000) 5593.
• 4) I. Naray-Szabo: Müegyetemi Közlemények 1 (1947) 30.
• 5) C. F. Buhere: J. Chem. Phys. 36 (1961) 798.

タイトルに関連する用語 (5件)： パルスレーザ堆積 ,  BI ,  O3 ,  薄膜 ,  キャラクタリゼーション