文献

J-GLOBAL ID：200902214464403401   整理番号：05A0914516

ナノビームSIMSによる削り取り深さプロフィリング

The Shave-off Depth Profiling by the Nano-Beam SIMS

著者 (13件)： TOI M. (Tokyo Univ. Sci., Chiba, JPN) ,  TOI M. (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  MAEKAWA A. (Tokyo Univ. Sci., Chiba, JPN) ,  MAEKAWA A. (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  YAMAMOTO T. (Tokyo Univ. Sci., Chiba, JPN) ,  YAMAMOTO T. (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  TOMIYASU B. (Tokyo Univ. Sci., Chiba, JPN) ,  TOMIYASU B. (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  SAKAMOTO T. (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  OWARI M. (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  NOJIMA M. (Tokyo Univ. Sci., Chiba, JPN) ,  NOJIMA M. (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  NIHEI Y. (Tokyo Univ. Sci., Chiba, JPN)
資料名： Journal of Surface Analysis  (Journal of Surface Analysis)
巻： 12  号： 2  ページ： 170-173  発行年： 2005年09月05日 
JST資料番号： L3852A  ISSN： 1341-1756  CODEN： JSANFX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 集束イオンビーム法(FIB)と組合わせたSIMS走査法はナノ...

シソーラス用語： 深さ分析 ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=05A0914516&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=L3852A") }}

分類 (1件)： 半導体集積回路  (NC03162T)

タイトルに関連する用語 (4件)： ナノビーム ,  SIMS ,  削り取り ,  深さプロフィリング