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J-GLOBAL ID：200902214656071836   整理番号：03A0636171

疎水性シリカゲルを用いる銅イオンの溶媒抽出挙動

Solvent Extraction Behavior of Copper Ions Using Hydrophobic Silica Gel

著者 (5件)： SHIMIZU T (Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN) ,  KOKUSEN H (Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN) ,  KOMATSU Y (Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN) ,  TSURUBOU S (Asahi Univ., Gifu, JPN) ,  SEKITA M (National Inst. Materials Sci., Ibaraki, JPN)
資料名： 日本イオン交換学会誌  (Journal of Ion Exchange)
巻： 14  号： Supplement  ページ： 369-372  発行年： 2003年07月14日 
JST資料番号： L2416A  ISSN： 0915-860X  CODEN： NKOGEZ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 疎水性シリカゲルが存在する系で,テノイルトリフルオロアセトン...

シソーラス用語： *溶媒抽出 ,...

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分類 (3件)： 抽出  (CC01040H) ,  抽出平衡,分配平衡  (CB03030H) ,  無機化合物一般及び元素  (CD01010D)

物質索引 (1件)： テノイルトリフルオロアセトン

引用文献 (3件)：

• 1) T. Sekine, I. Kobelova, J. Noro and N. Thi Kim Dung, Anal. Sci., 10, 743-748 (1994) .
• 2) T. Sekine, A. Abdurahman, and N. Thi Kim Dung, Anal. Sci., 10, 955-958 (1994) .
• 3) A. H. Bond, M. L. Diets and R. Chiarizia, Ind. Eng. Chem. Res., 39, 3442-3464 (2000) .

タイトルに関連する用語 (5件)： 疎水性 ,  シリカゲル ,  銅イオン ,  溶媒抽出 ,  挙動