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J-GLOBAL ID:200902214791564311   整理番号:05A0586453

包接化合物を用いるジアゾ/PVAとジアゾ/PVAcレジストの光と熱分解の制御

Control of Photo and Thermal Decomposition of Diazo/PVA and Diazo/PVAc Resist with Inclusion Compounds
著者 (5件):
資料名:
巻: 18  号:ページ: 187-192  発行年: 2005年 
JST資料番号: L0202A  ISSN: 0914-9244  CODEN: JSTEEW  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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少量のポリ酢酸ビニル(PVAc)ユニットを含む硫酸ジフェニル...
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分類 (2件):
分類
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高分子の分解,劣化  ,  固体デバイス製造技術一般 
タイトルに関連する用語 (4件):
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