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J-GLOBAL ID：200902214791564311   整理番号：05A0586453

包接化合物を用いるジアゾ/PVAとジアゾ/PVAcレジストの光と熱分解の制御

Control of Photo and Thermal Decomposition of Diazo/PVA and Diazo/PVAc Resist with Inclusion Compounds

著者 (5件)： HARADA Kieko (Chiba Univ., Chiba, JPN) ,  KUSHIDA Masahito (Chiba Univ., Chiba, JPN) ,  MIYAKAWA Shinichi (Chiba Univ., Chiba, JPN) ,  TAKAHARA Shigeru (Chiba Univ., Chiba, JPN) ,  SUGITA Kazuyuki (Chiba Univ., Chiba, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 18  号： 2  ページ： 187-192  発行年： 2005年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 少量のポリ酢酸ビニル(PVAc)ユニットを含む硫酸ジフェニル...

シソーラス用語： 包接化合物 ,...

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分類 (2件)： 高分子の分解,劣化  (CG03010A) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (3件)： ホルムアルデヒド ,  18-クラウン-6 ,  ベンゼンジアゾニウム

引用文献 (14件)：

• 1) H.Iida, "Micro- and Nanopattering Polymers" H.Ito, E.Reichmanis, O.Naramasu and T.Ueno, eds., ACS Symp. Ser.706, Amer. Chem. Soc., Washington, D.C., 1998, pp. 126-133
• 2) K.Harada, M.Kushida, K.Saito, K.Sugita and H.Iida, J. Imaging Sci. and Technol., 46, 159 (2002)
• 3) S.Nonogaki, H.Morishita, Y.Tomita and M.Nishigawa, J.Imaging Sci. and Tecnol., 30, 86 (1986)
• 4) T.Usami, T.Tanaka and S.Ishige, Electrophotography, 26, 115 (1987)
• 5) Y.Yoshida and S. Tatsuta, Electrophotography, 26, 120 (1987)

タイトルに関連する用語 (4件)： 包接化合物 ,  PVAc ,  レジスト ,  熱分解