研究者
J-GLOBAL ID：200901005745256929   更新日: 2022年08月28日

杉田 和之

スギタ カズユキ | Sugita Kazuyuki
所属機関・部署：
旧所属 千葉大学 工学部 共生応用化学科

旧所属 千葉大学 工学部 共生応用化学科 について


職名： 教授
ホームページURL (1件)： http://www.eng.chiba-u.ac.jp/homepage/japanese/menu/corepage.ltm
研究分野 (3件)： 薄膜、表面界面物性 ,  高分子材料 ,  高分子化学
研究キーワード (6件)： 情報記録材料 ,  機能性高分子材料 ,  高分子材料の合成と高機能化 ,  Specialty Materials for Information Recording ,  Specialty Polymeric Materials ,  Preparation and Performance Enhancement of Polymeric Materials
競争的資金等の研究課題 (8件)：
  • 1987 - 微細加工用レジストの高機能化
  • 1987 - Perfomance Enhancement of Resists for Microlithography
  • 1973 - Preparation of Novel Photodegradable Polymers and Their Application to Information Recording
  • 1973 - 新しい崩壊性フォトポリマーの合成と情報記録への応用
  • Preparation of Novel Photodegradable Polymers and Their Application to Information Recording
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MISC (32件)：
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特許 (2件)：
  • レジストパターンの形成方法
  • レジストパターンの形成方法
書籍 (6件)：
  • A Surface-Silylated Single-Layer Resist Using Chemical Amplification for DUV Lithography: III. Preliminary Results of Optimization of PAG and Its Content
    Proc. of 13th Inter'l Conf. on Photopolymers(Oct. 20-22,2003,Taminent,PA,USA),Eds. H. Ito,P.R. Varanasi, M. M. Khojasteh, and R. Chen,(Soc. Plastics Eng. Inc., Mid Hudson Section, Hopewell Junction, NY,2004) 2004
  • A Surface-Sylilated Single-Layer Resist Using Chemical Amplification for DUV Lithography: Limited Permeation of Si Compounds from Vapor and Liquid Phases,Forefront of Lithographic Materials Research
    Proc. of 12th Intern'l Conf. on Photopolymers, Oct. 16-18, 2000, McAfee, NJ, USA), Eds. H. Ito, M. M. Khojasteh and W. Li, (Soc. of Plastics Eng., Mid-Hudson Section, Hopewell Junction, NY, 2001) 2001
  • "表層イメージング-波長より微細なパターン形成を目指して-"
    『新しい半導体製造プロセスと材料』(シーエムシー,2000) 2000
  • Surface Imaging-Targeting the formation of a finer pattern than the wavelength of the transferring light
    New Process and Materials for Semiconductor Device Manufacturing. 2000
  • Highly Photosensitive Diazo Compounds as Photoacid Generators for Chemically Amplified Resists(jointly worked)
    Micro- and Nanopatterning Polymers(ACS Symp. Ser. #706) 1998
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Works (2件)：
  • 表層改質によるレジストパターン形成
    2000 - 2004
  • Resist Pattern Formation by Surface Imaging
    2000 - 2004
学歴 (4件)：
  • - 1968 東京大学 工学系研究科 合成化学
  • - 1968 東京大学
  • - 1962 東京大学 工学部 工業化学科
  • - 1962 東京大学
学位 (1件)：
  • 工学博士 (東京大学)
経歴 (10件)：
  • 1975 - 1989 千葉大学工学部助教授
  • 1975 - 1989 Assoc. Prof., Fac. Eng., Chiba Univ.
  • 1989 - - 千葉大学工学部教授
  • 1989 - - オンタリオ材料研究センター 客員研究者
  • 1989 - - Professor, Fac. Eng., Chiba Univ.
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委員歴 (4件)：
  • 1995 - 1996 ラドテック研究会 ,Rad Tech Asia '93 実行委員長,Rad Tech Asia'86, '88, '91組織委員および実行委員,Rad Tech Asia'97, 2003組織委員,研究会運営幹事、研究会評議員
  • 1994 - 1996 エレクトロニクス実装学会 理事,材料技術委員会委員長,国際交流委員会委員,国際交流委員会委員長・副委員長,プリント回路世界大会'96 プログラム委員,エレクトニクス回路世界大会'99 プログラム委員長, 同'02委員
  • 1993 - 1995 日本化学会 Pacifichem'95,シンポジウムオーガナイザー,PacifiChem2000,シンポジウムオーガナイザー
  • 1978 - 1992 高分子学会 印刷・情報記録・表示研究会運営委員,運営委員長
受賞 (1件)：
  • 1991 - (社)日本写真学会グラフィック・アーツ賞
所属学会 (7件)：
アメリカ化学会(American Chem.Soc.) 高分子材料部会(Division of Polymeric Materials) ,  アメリカ画像科学および技術協会(Society for Imaging Sci. Technol.) ,  ラドテック研究会 ,  エレクトロニクス実装学会 ,  日本写真学会 ,  高分子学会 ,  日本化学会
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