パターン化媒体作製用のステップアンドフラッシュインプリントリソグラフィー

SCHMID Gerard M.; MILLER Mike; BROOKS Cynthia; KHUSNATDINOV Niyaz; LABRAKE Dwayne; RESNICK Douglas J.; SREENIVASAN S. V.; GAUZNER Gene; LEE Kim; KUO David; WELLER Dieter; YANG Xiaomin

文献

J-GLOBAL ID：200902218041001531 整理番号：09A0383766

パターン化媒体作製用のステップアンドフラッシュインプリントリソグラフィー

Step and flash imprint lithography for manufacturing patterned media

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資料名：
巻： 27 号： 2 ページ： 573 発行年： 2009年03月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

記録密度がより高いハードディスクドライブに向けたますます増大する需要が連続磁気媒体からパターン化媒体ハードディスクへの技術シフトを動機づけた。これは10¹²ビット/in.²を越える密度でデータ記録を提供するためにハードディスクドライブの将来世代において実施されると予測される。ステップアンドフラッシュインプリントリソグラフィー(S-FIL)技術を使ってハードディスク基板にパターンを形成した。本報では,大量製造,すなわちマスタテンプレート作製,テンプレート複製,正確にコントロールされた残留層を用いた大量インプリンティング,および両側インプリンティングにおいてS-FILを可能にするために必要なインフラストラクチャーを議論する。ディスクのインプリンティングを現在180ディスク/h(両側)の高い基板スループットを実証した。これらのプロセスを適用し,ハードディスク基質に離散トラックとビットパターン化の両設計によるハードディスク基板のパターン化を行った。(翻訳著者抄録)

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固体デバイス製造技術一般 , 電子・磁気・光学記録

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