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J-GLOBAL ID：200902218113047906   整理番号：06A0075190

親水性高分子修飾による非特異吸着抑制界面の創製とセルアレイへの展開

著者 (8件)： 平野覚浩 (東大 大学院) ,  大塚英典 (物質・材料研究機構) ,  池谷武志 (東洋合成) ,  渋谷徹 (東洋合成) ,  鈴木聡 (HAB研究機構) ,  絵野沢伸 (国立成育医療セ) ,  長崎幸夫 (筑波大 TIMS) ,  片岡一則 (東大 大学院)
資料名： 日本学術会議材料研究連合講演会講演論文集  (日本学術会議材料研究連合講演会前刷集)
巻： 49th  ページ： 397-398  発行年： 2005年09月15日 
JST資料番号： L2574A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *医用高分子 ,...
準シソーラス用語： セルアレイ ,...

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分類 (2件)： 医用素材  (GA05040H) ,  高分子固体のその他の性質  (CG02025L)

タイトルに関連する用語 (7件)： 親水性高分子 ,  修飾 ,  吸着 ,  界面 ,  創製 ,  セルアレイ ,  展開