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J-GLOBAL ID：200902220406354913   整理番号：05A0182974

Siウエハへの析出による磁気ドットアレーの位置選択的形成

Area selective formation of magnetic nanodot arrays on Si wafer by electroless deposition

著者 (6件)： KAWAJI J (Waseda Univ., Tokyo, JPN) ,  KITAIZUMI F (Waseda Univ., Tokyo, JPN) ,  OIKAWA H (Waseda Univ., Tokyo, JPN) ,  NIWA D (Waseda Univ., Tokyo, JPN) ,  HOMMA T (Waseda Univ., Tokyo, JPN) ,  OSAKA T (Waseda Univ., Tokyo, JPN)
資料名： Journal of Magnetism and Magnetic Materials  (Journal of Magnetism and Magnetic Materials)
巻： 287  ページ： 245-249  発行年： 2005年02月 
JST資料番号： H0644A  ISSN： 0304-8853  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 次世代の垂直磁気記録媒体のパターニング法を開発するため,標記...

シソーラス用語： *網点 ,...
準シソーラス用語： 磁気ドットアレー

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分類 (3件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  無電解めっき  (WC08024S) ,  電子・磁気・光学記録  (NC06020F)

タイトルに関連する用語 (5件)： Siウエハ ,  析出 ,  磁気ドット ,  アレー ,  位置選択