研究者
J-GLOBAL ID：200901084608353760
更新日: 2020年08月29日
丹羽 大介
ニワ ダイスケ | Niwa Daisuke
所属機関・部署：
旧所属 早稲田大学 先端科学・健康医療融合研究機構
旧所属 早稲田大学 先端科学・健康医療融合研究機構 について
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職名：
客員講師(専任扱い)
ホームページURL (1件)：
http://www.waseda.jp/scoe/
研究分野 (5件)：
結晶工学
, 応用物性
, 基礎物理化学
, ナノマイクロシステム
, ナノ材料科学
研究キーワード (10件)：
分子認識デバイス
, シリコンデバイスプロセス
, 分子修飾
, 表面物理化学
, ナノ制御
, 分子デバイス
, 有機分子
, 半導体
, 表面・界面
, Surface・Interface Semiconductor Organic molecule Molecular devices Nano-control Surface physical chemistry Molecular modification Silicon device fabrication processes Molecular recognition devices
競争的資金等の研究課題 (4件)：
有機単分子修飾半導体表面の形成とその特性評価
オンチップ分子認識デバイスの構築
Formation and Characterization of Monolayer Modified Semiconductor Surface
Fabrication of On-chip Molecular Recognition Device
MISC (43件)：
J Kawaji, F Kitaizumi, H Oikawa, D Niwa, T Homma, T Osaka. Area selective formation of magnetic nanodot arrays on Si wafer by electroless deposition. JOURNAL OF MAGNETISM AND MAGNETIC MATERIALS. 2005. 287. 245-249
Daisuke Niwa, Takayuki Homma, Tetsuya Osaka. Deposition behavior of Ni on Si(100) surfaces in an aqueous alkaline solution. Journal of the Electrochemical Society. 2005. 152. 2. C54-C59
D Niwa, T Homma, T Osaka. Deposition mechanism of Ni on Si(100) surfaces in aqueous alkaline solution. JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY B. 2004. 108. 28. 9900-9904
D Niwa, T Inoue, H Fukunaga, T Akasaka, T Yamada, T Homma, T Osaka. Electrochemical behavior of methyl- and butyl-terminated Si(111) in aqueous solution. CHEMISTRY LETTERS. 2004. 33. 3. 284-285
D Niwa, Y Yamada, T Homma, T Osaka. Formation of molecular templates for fabricating on-chip biosensing devices. JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY B. 2004. 108. 10. 3240-3245
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学歴 (4件)：
- 2004 早稲田大学 理工学研究科 応用化学専攻
- 2004 早稲田大学
- 1999 早稲田大学 理工学部 応用化学科
- 1999 早稲田大学
学位 (1件)：
博士(工学) (早稲田大学)
所属学会 (4件)：
日本応用物理学会
, 米国電気化学会(ECS)
, 電気化学会
, 日本化学会
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