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J-GLOBAL ID：200902220873329086   整理番号：04A0098347

50keV又はそれ以上のエネルギーの電子ビームを用いたフォトマスクの観察と測定

Observations and measurements of photomasks using an electron beam with energy of 50keV or higher
著者 (3件)：
MIZUNO F

MIZUNO F について

(Meisei Univ., Tokyo, JPN)

Meisei Univ., Tokyo, JPN について

, 
OHFUJI T

OHFUJI T について

(Intel K.K., Ibaraki-ken, JPN)

Intel K.K., Ibaraki-ken, JPN について

, 
AMANO T

AMANO T について

(Dai Nippon Printing Co., Ltd., Saitama-ken, JPN)

Dai Nippon Printing Co., Ltd., Saitama-ken, JPN について


資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)

Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures について


巻： 21  号： 6  ページ： 3131-3135  発行年： 2003年11月 
JST資料番号： E0974A  ISSN： 1071-1023  CODEN： JVTBD9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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SEMによるフォトマスク観察の分解能を改善し,測定の不確実性...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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*フォトマスク

フォトマスク について

,...
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分類 (1件)：
分類
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固体デバイス計測・試験・信頼性 
(NC03040G)

固体デバイス計測・試験・信頼性 について

タイトルに関連する用語 (4件)：
タイトルに関連する用語
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エネルギー

エネルギー について

, 
電子ビーム

電子ビーム について

, 
フォトマスク

フォトマスク について

, 
観察

観察 について


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