赤外分光偏光解析法による多孔質シリカ低誘電率薄膜中の骨格シリカの評価

TAKADA Syozo; HATA Nobuhiro; SEINO Yutaka; FUJII Nobutoshi; KIKKAWA Takamaro

文献

J-GLOBAL ID：200902227984540350 整理番号：05A0675879

赤外分光偏光解析法による多孔質シリカ低誘電率薄膜中の骨格シリカの評価

Skeletal silica characterization in porous-silica low-dielectric-constant films by infrared spectroscopic ellipsometry

出版者サイト複写サービスで全文入手 {{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=05A0675879&COPY=1") }}
高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=05A0675879&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=C0266A") }}

著者 (5件)：

TAKADA Syozo

TAKADA Syozo について

名寄せID(JGPN) 200901100398351056 ですべてを検索
「TAKADA Syozo」ですべてを検索

(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)

National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN について

名寄せID(JGON) 202251000174437891 ですべてを検索
「National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN」ですべてを検索
機関情報を見る

HATA Nobuhiro

HATA Nobuhiro について

名寄せID(JGPN) 200901100357365689 ですべてを検索
「HATA Nobuhiro」ですべてを検索
研究者情報を見る

(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)

National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN について

名寄せID(JGON) 202251000174437891 ですべてを検索
「National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN」ですべてを検索
機関情報を見る

SEINO Yutaka

SEINO Yutaka について

名寄せID(JGPN) 200901100381337327 ですべてを検索
「SEINO Yutaka」ですべてを検索
研究者情報を見る

(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)

National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN について

名寄せID(JGON) 202251000174437891 ですべてを検索
「National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN」ですべてを検索
機関情報を見る

FUJII Nobutoshi

FUJII Nobutoshi について

名寄せID(JGPN) 200901100508844037 ですべてを検索
「FUJII Nobutoshi」ですべてを検索

(Assoc. of Super-Advanced Electronics Technol., Ibaraki, JPN)

Assoc. of Super-Advanced Electronics Technol., Ibaraki, JPN について

名寄せID(JGON) 202251000175100084 ですべてを検索
「Assoc. of Super-Advanced Electronics Technol., Ibaraki, JPN」ですべてを検索

KIKKAWA Takamaro

KIKKAWA Takamaro について

名寄せID(JGPN) 200901100399115020 ですべてを検索
「KIKKAWA Takamaro」ですべてを検索

(Hiroshima Univ., Hiroshima, JPN)

Hiroshima Univ., Hiroshima, JPN について

名寄せID(JGON) 201551000096408710 ですべてを検索
「Hiroshima Univ., Hiroshima, JPN」ですべてを検索
機関情報を見る

資料名：

Journal of Applied Physics (Journal of Applied Physics)

Journal of Applied Physics について

JST資料番号 C0266A ですべてを検索
ISSN,ISBN,CODENですべてを検索
資料情報を見る

巻： 97 号： 11 ページ： 113504.1-113504.5 発行年： 2005年06月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

抄録/ポイント：

抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

多孔質シリカ低誘電率(低-k)薄膜を表面活性剤テンプレートに...

シソーラス用語：

シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ（有料）でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

*多孔質体

多孔質体について

「多孔質体」ですべてを検索
この用語の用語情報を見る

,...
準シソーラス用語：

*シリカ

シリカについて

「シリカ」ですべてを検索
この用語の用語情報を見る

,...

続きはJDreamIII（有料）にて {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=05A0675879&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=C0266A") }}

分類 (3件)：

分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです

酸化物薄膜

(BK14050P)

酸化物薄膜について

分類コード BK14050P で文献を検索
分類コード4桁 BK14 で文献を検索

, 光物性一般

(BM08010A)

光物性一般について

分類コード BM08010A で文献を検索
分類コード4桁 BM08 で文献を検索

, 固体の機械的性質一般

(BL01021C)

固体の機械的性質一般について

分類コード BL01021C で文献を検索
分類コード4桁 BL01 で文献を検索

タイトルに関連する用語 (7件)：

タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

赤外分光

赤外分光について

「赤外分光」ですべてを検索
この用語の用語情報を見る

偏光解析法

偏光解析法について

「偏光解析法」ですべてを検索
この用語の用語情報を見る

多孔質シリカ

多孔質シリカについて

「多孔質シリカ」ですべてを検索
この用語の用語情報を見る

低誘電率薄膜

低誘電率薄膜について

「低誘電率薄膜」ですべてを検索
この用語の用語情報を見る

骨格

骨格について

「骨格」ですべてを検索
この用語の用語情報を見る

シリカ

シリカについて

「シリカ」ですべてを検索
この用語の用語情報を見る

評価

評価について

「評価」ですべてを検索
この用語の用語情報を見る

前のページに戻る