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J-GLOBAL ID:200902227984540350   整理番号:05A0675879

赤外分光偏光解析法による多孔質シリカ低誘電率薄膜中の骨格シリカの評価

Skeletal silica characterization in porous-silica low-dielectric-constant films by infrared spectroscopic ellipsometry
著者 (5件):
資料名:
巻: 97  号: 11  ページ: 113504.1-113504.5  発行年: 2005年06月01日 
JST資料番号: C0266A  ISSN: 0021-8979  CODEN: JAPIAU  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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多孔質シリカ低誘電率(低-k)薄膜を表面活性剤テンプレートに...
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分類 (3件):
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酸化物薄膜  ,  光物性一般  ,  固体の機械的性質一般 

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