研究者
J-GLOBAL ID：200901085087060644
更新日: 2020年08月29日
秦 信宏
ハタ ノブヒロ | Hata Nobuhiro
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所属機関・部署：
独立行政法人産業技術総合研究所 ナノ電子デバイス研究センター
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ホームページURL (1件)：
http://www.aist.go.jp/RESEARCHERDB/cgi-bin/worker_detail.cgi?call=namae&rw_id=N53140655
研究分野 (5件)：
反応工学、プロセスシステム工学
, 電子デバイス、電子機器
, 電気電子材料工学
, 光工学、光量子科学
, 薄膜、表面界面物性
研究キーワード (1件)：
シリコン 配線技術 低誘電率材料 層間絶縁膜
競争的資金等の研究課題 (1件)：
Low-k 材料・配線技術
MISC (28件)：
Characterization of Etching Rates for Porous Silica low-k Films. Japanese Journal of Applied Physcis. 2006. 45. 11. 8873-8875
S Takada, N Hata, Y Seino, N Fujii, T Kikkawa. Skeletal silica characterization in porous-silica low-dielectric-constant films by infrared spectroscopic ellipsometry. JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2005. 97. 11. 113504-113508
H Miyoshi, N Hata, T Kikkawa. Theoretical investigation into effects of pore size and pore position distributions on dielectric constant and elastic modulus of two-dimensional periodic porous silica films. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS. 2005. 44. 3. 1166-1168
H Miyoshi, H Matsuo, H Tanaka, K Yamada, Y Oku, S Takada, N Hata, T Kikkawa. Theoretical investigation of dielectric constant and elastic modulus of two-dimensional periodic porous silica films with elliptical cylindrical pores. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS. 2005. 44. 3. 1161-1165
Theoretical Investigation of the Dielectric Constant and Elastic Modulus of Three-Dimensional Isotropic Porous Silica Films with Cubic and Disordered Pore Arrangements. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2005. 44. 8. 5982-5986
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学歴 (2件)：
東京大学
東京大学大学院
学位 (1件)：
工学博士
所属学会 (4件)：
Materials Research Society
, (社)応用物理学会
, Materials Research Society
, Japan Society of Applied Physics
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