文献

J-GLOBAL ID：200902228224786657   整理番号：09A0029755

含フッ素ブロック共重合体の精密合成とフィルム表面の構造

著者 (1件)： 杉山賢次 (東京工大 大学院理工学研究科)
資料名： 化学と教育  (Chemistry & Education)
巻： 56  号： 12  ページ： 614-615  発行年： 2008年12月20日 
JST資料番号： G0942A  ISSN： 0386-2151  CODEN： KAKYEY  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： スチレン-ペルフルオロアルキル基を有するスチレン誘導体から構成される含フッ素ブロック共重合体の,リビングアニオン重合と定量的な高分子反応を用いた,分子量と組成比を制御可能な精密合成について紹介した。ブチルリチウムを開始剤としてスチレンをリビングアニオン重合し,続いてtert-ブチルジメチルシリル基で官能基保護した4-ビニルフェノールの重合,生成ブロック共重合体の脱保護基,Williamson反応によるペルフルオロアルキル基の導入からなる,含フッ素ブロック共重合体の合成について記述した。生成重合体フィルムのX線光電子スペクトルおよび接触角からの表面構造解析結果を示した。ブロック共重合体とすることで溶解性が著しく向上することが分かった。

シソーラス用語： *リビングアニオン重合 ,  重合開始剤 ,  ブロック共重合 ,  *ブロック共重合体 ,  *フッ素化重合体 ,  脱保護基 ,  表面構造 ,  X線光電子スペクトル ,  接触角 ,  高分子反応 ,  界面張力 ,  置換反応 ,  プラスチックフィルム ,  芳香族炭化水素 ,  ビニル化合物 ,  有機リチウム化合物 ,  構造

分類 (1件)： 共重合  (CG04030D)

物質索引 (4件)： スチレン ,  ブチルリチウム ,  1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8-ヘプタデカフルオロ-11-ブロモウンデカン ,  4-(tert-ブチルジメチルシリルオキシ)スチレン

引用文献 (2件)：

• YOKOYAMA, H. Macromolecules. 2004, 37, 939
• 杉山賢次. 高分子論文集. 2007, 64, 665

タイトルに関連する用語 (4件)： フッ素 ,  ブロック共重合体 ,  精密合成 ,  フィルム表面