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J-GLOBAL ID：200902229990184673   整理番号：06A0951335

成長中に水蒸気導入を用いたCu(In,Ga)Se2の薄膜特性の制御

Control of the thin film properties of Cu(In,Ga)Se2 using water vapor introduction during growth
著者 (9件)：
ISHIZUKA Shogo

ISHIZUKA Shogo について

(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, JPN)

National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, JPN について

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SHIBATA Hajime

SHIBATA Hajime について

(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, JPN)

National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, JPN について

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YAMADA Akimasa

YAMADA Akimasa について

(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, JPN)

National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, JPN について

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FONS Paul

FONS Paul について

(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, JPN)

National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, JPN について

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SAKURAI Keiichiro

SAKURAI Keiichiro について

(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, JPN)

National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, JPN について

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MATSUBARA Koji

MATSUBARA Koji について

(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, JPN)

National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, JPN について

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NIKI Shigeru

NIKI Shigeru について

(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, JPN)

National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, JPN について

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YONEMURA Minoru

YONEMURA Minoru について

(Tokyo Univ. of Sci., 2641 Yamazaki, Noda, Chiba 278-8510, JPN)

Tokyo Univ. of Sci., 2641 Yamazaki, Noda, Chiba 278-8510, JPN について

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NAKANISHI Hisayuki

NAKANISHI Hisayuki について

(Tokyo Univ. of Sci., 2641 Yamazaki, Noda, Chiba 278-8510, JPN)

Tokyo Univ. of Sci., 2641 Yamazaki, Noda, Chiba 278-8510, JPN について


資料名：
Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)

Journal of Applied Physics について


巻： 100  号： 9  ページ： 096106-096106-3  発行年： 2006年11月01日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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Cu(In,Ga)Se2(CIGSe)...
シソーラス用語：
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*水蒸気

水蒸気 について

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空孔【点欠陥】

空孔【点欠陥】 について

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分類 (2件)：
分類
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半導体薄膜 
(BK14040E)

半導体薄膜 について

,  太陽電池 
(NC03084O)

太陽電池 について

タイトルに関連する用語 (5件)：
タイトルに関連する用語
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成長

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水蒸気

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Cu

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膜特性

膜特性 について


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