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J-GLOBAL ID：200902231982625088   整理番号：03A0377703

ハロゲン化物イオンの消耗によるサブミクロントレンチでの銅の優先電着

Preferential Copper Electrodeposition at Submicrometer Trenches by Consumption of Halide Ion.

著者 (4件)： HAYASE M (Tokyo Inst. Technol., Kanagawa, JPN) ,  TAKETANI M (Tokyo Inst. Technol., Kanagawa, JPN) ,  HATSUZAWA T (Tokyo Inst. Technol., Kanagawa, JPN) ,  HAYABUSA K (Ebara Res. Co., Ltd., Kanagawa, JPN)
資料名： Electrochemical and Solid-State Letters  (Electrochemical and Solid-State Letters)
巻： 6  号： 6  ページ： C92-C95  発行年： 2003年06月 
JST資料番号： W1290A  ISSN： 1099-0062  CODEN： ESLEF6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 酸性硫酸銅電気めっき浴槽へわずか二成分(臭素イオン及びポリエ...

シソーラス用語： *銅 ,...
準シソーラス用語： ポリエチレングリコール ,...

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分類 (3件)： 電気化学反応  (CB07050F) ,  電気めっき  (WC08023B) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： ハロゲン化物 ,  イオン ,  消耗 ,  銅 ,  優先 ,  電着