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J-GLOBAL ID:200902232506996163   整理番号:04A0501014

Coをドープしたβ-FeSi2の格子位置占有に対する電子チャネリングX線微小解析

Electron channeling X-ray microanalysis for site occupation in β-FeSi2 doped with Co
著者 (2件):
資料名:
巻: 52  号:ページ: 35-41  発行年: 2004年03月 
JST資料番号: D0448C  ISSN: 1044-5803  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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TEMを用いた各種の電子入射方向における特性X線強度の測定と...
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分類 (1件):
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金属の格子欠陥 

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