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J-GLOBAL ID：200902232506996163   整理番号：04A0501014

Coをドープしたβ-FeSi₂の格子位置占有に対する電子チャネリングX線微小解析

Electron channeling X-ray microanalysis for site occupation in β-FeSi₂ doped with Co

著者 (2件)： MORIMURA T (Nagasaki Univ., Nagasaki, JPN) ,  HASAKA M (Nagasaki Univ., Nagasaki, JPN)
資料名： Materials Characterization  (Materials Characterization)
巻： 52  号： 1  ページ： 35-41  発行年： 2004年03月 
JST資料番号： D0448C  ISSN： 1044-5803  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： TEMを用いた各種の電子入射方向における特性X線強度の測定と...

シソーラス用語： *鉄合金 ,...
準シソーラス用語： ALCHEMI法

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分類 (1件)： 金属の格子欠陥  (BK12030F)

タイトルに関連する用語 (7件)： CO ,  ドープ ,  格子 ,  電子チャネリング ,  X線 ,  微小 ,  解析