文献

J-GLOBAL ID：200902233949407981   整理番号：05A0528948

高いプロトン伝導性を示すジチオオキサミダト銅錯体におけるガス吸着特性

A study on the property of the gas adsorption for Highly Proton-conductive dithiooxamidatocopper complexes

著者 (5件)： 長尾祐樹 (九大 大学院) ,  北川宏 (九大 大学院) ,  久保孝史 (大阪大 大学院) ,  中筋一弘 (大阪大 大学院) ,  池田龍一 (筑波大 化学系)
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 85th  号： 1  ページ： 423  発行年： 2005年03月11日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ルベアン酸銅配位高分子は,高いプロトン伝導性を示し,金属ダイ...

シソーラス用語： 銅錯体 ,...
準シソーラス用語： 配位重合体

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=05A0528948&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=S0493A") }}

分類 (3件)： 物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P) ,  第11族,第12族元素の錯体  (CE01050Y) ,  高分子固体のその他の性質  (CG02025L)

物質索引 (1件)： ジチオオキサミド

タイトルに関連する用語 (3件)： プロトン伝導性 ,  銅錯体 ,  吸着特性