dc反応性マグネトロンコスパッタリングにより作製した硬質ナノ複合材料Ti-Cu-N薄膜

文献

J-GLOBAL ID：200902238669880667 整理番号：04A0395254

Hard nanocomposite Ti-Cu-N films prepared by d.c. reactive magnetron co-sputtering

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資料名：
巻： 183 号： 1 ページ： 62-68 発行年： 2004年05月01日
JST資料番号： D0205C ISSN： 0257-8972 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

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気相めっき

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