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J-GLOBAL ID：200902244157666434   整理番号：08A0919157

ガス支援集束電子ビームおよびイオンビーム加工と製作

Gas-assisted focused electron beam and ion beam processing and fabrication

著者 (3件)： UTKE Ivo (EMPA, Swiss Federal Inst. of Materials Testing and Res., Feuerwerkerstrasse 39, CH-3602 Thun, CHE) ,  HOFFMANN Patrik (Advanced Photonics Lab., Ecole Polytechnique Federale de Lausanne, CH-1015 Lausanne, CHE) ,  MELNGAILIS John (Dep. of Electrical and Computer Engineering, Inst. for Res. in Electronics and Applied Physics, Univ. of Maryland ...)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 26  号： 4  ページ： 1197  発行年： 2008年07月 
JST資料番号： E0974A  ISSN： 1071-1023  CODEN： JVTBD9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 電子およびイオンビームは今やまったく普通にナノメートル領域の大きさに集束させることができる。これらのビームは表面上の入射した点で材料を改変することが出来るので,直接ナノ加工ツールを代表するものである。著者らは,リソグラフィーよりはむしろ直接加工に焦点を当てた。というのは,リソグラフィーはレジストという中間段階を使う点において間接的だからである。イオンおよび電子のいずれの場合にも,材料の付加と除去が前駆体ガスによって遂行される。さらに,イオンはスパッタリング(ミリング),損傷,または注入によって材料を改質できる。前駆体ガスを用いた多くの材料除去および堆積加工が,マスク修理,回路再構築および修復,および試料切片化のような数多くの実用的応用に対して開発されてきた。著者らは,研究目的または加工能力実証のために作製された構造も議論する。多くの場合,これらの工程が実現できる大きさはビーム直径よりもかなり大きい。前駆体ガス活性化に係わる原子レベル機構は,多くの場合詳細に研究されてこなかった。著者らは,技術の現状と直接イオンおよび電子ビーム加工の理解水準をレビューし,いくつかの未解決課題を指摘した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *電子ビーム加工 ,  イオンビーム加工 ,  *集束イオンビーム ,  ビーム集束 ,  *ナノメータ加工 ,  電子ビーム蒸着 ,  イオンビーム蒸着 ,  ドライエッチング ,  前駆体 ,  吸着 ,  フォトマスク ,  修理 ,  イオンビームスパッタリング ,  レビュー
準シソーラス用語： 電子ビーム誘起堆積

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  電子ビーム・イオンビームの応用  (BD02070X)

タイトルに関連する用語 (5件)： 支援 ,  集束 ,  電子ビーム ,  イオンビーム加工 ,  製作