文献

J-GLOBAL ID：200902245489895999   整理番号：05A0586452

UVレーザ照射を用いるポジティブトーンジアゾナフトキノン/ノボラックレジストの除去

Removal of Positive-tone Diazonaphthoquinone/Novolak Resist Using UV Laser Irradiation

著者 (3件)： HORIBE Hideo (Kochi National Coll. Technol., Kochi, JPN) ,  KAMIMURA Tomosumi (Osaka Inst. Technol., Osaka, JPN) ,  YOSHIDA Kunio (Osaka Inst. Technol., Osaka, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 18  号： 2  ページ： 181-185  発行年： 2005年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： この研究はポジティブトーンジアゾナフトキノン/ノボラックレジ...

シソーラス用語： 紫外レーザ ,...
準シソーラス用語： ポジティブ型フォトレジスト

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分類 (2件)： 高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (8件)：

• 1. S. Saito and M. Minato, "Ashing equipment," Semiconductor World (Monthly) 64(1993) [in Japanese].
• 2. A. Takanashi, Semicon News, 47(1988) [in Japanese].
• 3. M. Ishibe and M. Takemori, "Development of equipment for single substrate resist removal", Shimada Rika Gihou, 11(1999) [in Japanese].
• 4. S. Noda, H. Horibe, M. Kuzumoto and T. Kataoka, J. Adv. Oxidation Tech., 6(2) 132(2003).
• 5. S. Noda, M. Miyamoto, H. Horibe, M. Kuzumoto and T. Kataoka, J. Electrochem. Soc., 150(9) 537(2003).

タイトルに関連する用語 (1件)： UVレーザ