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J-GLOBAL ID：200902247108168100   整理番号：08A0107278

2成分混合溶液を用いたCVD新気化供給法の構築

Construction of New CVD Evaporation Supply Method by Flashing Spray

著者 (7件)： 土田倫也 (同志社大 大学院) ,  木村大一郎 (同志社大 大学院) ,  大嶋元啓 (同志社大 大学院) ,  富永浩二 (堀場製作所) ,  中尾基 (九州工大) ,  千田二郎 (同志社大) ,  石田耕三 (堀場製作所)
資料名： 日本機械学会年次大会講演論文集  (日本機械学会年次大会)
巻： 2007  号： Vol.7  ページ： 171-172  発行年： 2007年09月07日 
JST資料番号： X0587B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： CVD法は,他の薄膜形成法と比較して,段差被膜性,組成制御性,および成膜の再現性に優れるため,その用途は多岐に渡る。従来のCVD法は,気化におけるエネルギー大量消費,成膜原料の過剰消費,定期的な配管ラインの交換・洗浄等の問題を持つ。そこで,本研究では,チャンバ直上に設置したノズルより混合溶液を間欠噴射し減圧沸騰を利用して気化を行う原料供給法を提案している。本論文では,本方式における減圧沸騰噴霧の微粒化特性,蒸発特性を把握するため,背景光撮影およびLIF法とMie散乱光の同時計則を行った。(著者抄録)

シソーラス用語： *半導体工業 ,  *化学蒸着 ,  減圧 ,  沸騰 ,  *噴霧 ,  原料 ,  間欠性 ,  *噴射 ,  *微粒化 ,  二成分系 ,  蛍光 ,  Mie散乱 ,  混合液体 ,  溶液 ,  蒸発 ,  供給装置 ,  実験装置 ,  ノズル ,  バックグラウンド ,  撮影 ,  同時計測
準シソーラス用語： *CVD【化学蒸着】 ,  LIF【レーザ誘起蛍光】 ,  チャンバ ,  レーザ誘起蛍光 ,  気化 ,  構築 ,  背景

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  噴流  (BC02080F)

タイトルに関連する用語 (5件)： 2成分 ,  混合溶液 ,  CVD ,  気化 ,  構築