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J-GLOBAL ID：200902247566605071   整理番号：04A0065301

窒化ケイ素粉末表面のSiH_x吸収バンドの拡散反射フーリエ変換赤外線分光による解析

SiH_x Absorbance Bands in Si₃N₄ Powder Surfaces Analyzed by Diffuse Reflectance Infrared Fourier Transform Spectroscopy

著者 (3件)： HIEN T T T (Nagaoka Univ. Technol., Niigata) ,  ISHIZAKI C (Nagaoka Univ. Technol., Niigata) ,  ISHIZAKI K (Nagaoka Univ. Technol., Niigata)
資料名： 日本セラミックス協会学術論文誌  (Journal of the Ceramic Society of Japan)
巻： 112  号： 1301  ページ： 1-5  発行年： 2004年01月01日 
JST資料番号： F0382A  ISSN： 0914-5400  CODEN： JCSJEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 7つの市販Si₃N<sub>4</su...

シソーラス用語： *窒化ケイ素 ,...
準シソーラス用語： シリカ

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分類 (1件)： 無機化合物の赤外・Ramanスペクトル(分子)  (BH06032B)

引用文献 (10件)：

• 1) Fameli, G., Della Sala, D., Roca, F. and Gerardi, C., J. Non-Cryst. Solids, Vol. 198–200, pp. 69–72 (1996).
• 2) Miyoshi, Y., Yashida, Y., Miyozaki, S. and Hirose, M., J. Non-Cryst. Solids, Vol. 198–200, pp. 1029–1033 (1996).
• 3) Morterra, C. and Low, M. J. D., Chemical Communications, pp. 1491–1493 (1968).
• 4) Luongo, J. P., Applied Spectroscopy, Vol. 38, pp. 195–199 (1984).
• 5) Ho, P., Buss, Richard J. and Loehman, R. E., J. Mater. Res., Vol. 4, pp. 873–881 (1989).

タイトルに関連する用語 (6件)： 窒化ケイ素粉末 ,  吸収バンド ,  拡散反射 ,  フーリエ変換 ,  赤外線分光 ,  解析