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J-GLOBAL ID：200902248327809753   整理番号：03A0508990

I-ライン感受性光酸発生剤及びそのポリシラン/ジエポキシフルオレンブレンドの光橋かけへの利用

I-Line Sensitive Photoacid Generators and Their Use for Photocrosslinking of Polysilane/diepoxyfluorene Blend

著者 (7件)： OKAMURA H (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  SAKAI K (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  TSUNOOKA M (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  SHIRAI M (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  FUJIKI T (Osaka Gas Co., Ltd., Osaka, JPN) ,  KAWASAKI S (Osaka Gas Co., Ltd., Osaka, JPN) ,  YAMADA M (Osaka Gas Co., Ltd., Osaka, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 16  号： 1  ページ： 87-90  発行年： 2003年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポリ(メチルフェニルシラン)(PMPS)などのポリシラン重合...

シソーラス用語： 光酸発生剤 ,...
準シソーラス用語： *光橋架け ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (3件)： トリフルオロメタンスルホン酸1,3-ジヒドロ-1,3-ジオキソ-2H-ベンゾ[de]イソキノリン-2-イル ,  トリフルオロメタンスルホン酸(9H-フルオレン-9-イリデン)アミノ ,  ノナフルオロブタン-1-スルホン酸(9H-フルオレン-9-イリデン)アミノ

引用文献 (7件)：

• 1. J.P. Fouassier, J.F. Rabek, Radiation Curing in Polymer Science and Technology, Elsevier Applied Science, New York (1993).
• 2. H. Okamura, Y. Watanabe, M. Shirai, M. Tsunooka, T. Fujiki, S. Kawasaki, M. Yamada, J. Photopolym. Sci. Technol., 15 (2002) 145.
• 3. F. Ortica, J.C. Scaiono, G. Pohlers, J.F. Cameron, A. Zampini, Chem. Mater., 12 (2000) 414.
• 4. K. Naitoh, T. Yamaoka, A. Umehara, Chem. Lett., (1991) 1869.
• 5. L.R. Subramanian, M. Hanack, Chem. Ber., 105 (1972) 1465.

タイトルに関連する用語 (4件)： 感受性 ,  光酸発生剤 ,  ポリシラン ,  光橋かけ