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J-GLOBAL ID:200902136830124072   整理番号:02A0616840

I線感応の光酸発生剤および光塩基発生剤ならびにポリ(ビニルフェノール)とジエポキシフルオレン誘導体をベースとする光橋かけ系への応用

I-Line Sensitive Photoacid and Photobase Generators and Their Use for Photocrosslinking System Based on Poly(vinylphenol) and Diepoxy Fluorene Derivatives.
著者 (7件):
資料名:
巻: 15  号:ページ: 145-152  発行年: 2002年 
JST資料番号: L0202A  ISSN: 0914-9244  CODEN: JSTEEW  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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I線感応の光酸および光塩基発生剤を合成して,これをポリ(ビニ...
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