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J-GLOBAL ID：200902136830124072   整理番号：02A0616840

I線感応の光酸発生剤および光塩基発生剤ならびにポリ(ビニルフェノール)とジエポキシフルオレン誘導体をベースとする光橋かけ系への応用

I-Line Sensitive Photoacid and Photobase Generators and Their Use for Photocrosslinking System Based on Poly(vinylphenol) and Diepoxy Fluorene Derivatives.

著者 (7件)： OKAMURA H (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  WATANABE Y (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  TSUNOOKA M (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  SHIRAI M (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  FUJIKI T (Osaka Gas Co., Ltd., Osaka, JPN) ,  KAWASAKI S (Osaka Gas Co., Ltd., Osaka, JPN) ,  YAMADA M (Osaka Gas Co., Ltd., Osaka, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 15  号： 1  ページ： 145-152  発行年： 2002年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： I線感応の光酸および光塩基発生剤を合成して,これをポリ(ビニ...

シソーラス用語： 光塩基発生剤 ,...
準シソーラス用語： 橋架け剤 ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (5件)： ベンゾフェノン ,  2-クロロ-9H-チオキサンテン-9-オン ,  9,9-ビス[4-[2-(グリシジルオキシ)エトキシ]フェニル]-9H-フルオレン ,  9,9-ビス[4-(グリシジルオキシ)フェニル]-9H-フルオレン ,  9-[(4-メチルフェニル)スルホニルオキシイミノ]-9H-フルオレン

引用文献 (8件)：

• 1). J. P. Fouassier, J. F. Rabek, Radiation Curing in Polymer Science and Technology, Elsevier Applied Science, New York (1993).
• 2). M. Shirai, M. Tsunooka, Prog. Polym. Sci., 21 (1995) 1.
• 3). M. Shirai, M. Tsunooka, Bull. Chem. Soc. Jpn., 71 (1998) 2483.
• 4). H. Okamura, C. Harada, S. Morishita, M. Shirai, M. Tsunooka, T. Fujiki, S. Kawasaki, M. Yamada, J. Photopolym. Sci. Technol., 14 (2001) 159.
• 5). K. Ito, Y. Shigeru, Y. Kawata, K. Ito, M. Tsunooka, Can. J Chem., 73 (1995) 1924.

タイトルに関連する用語 (5件)： 光酸発生剤 ,  光塩基発生剤 ,  誘導体 ,  光橋かけ ,  応用