文献

J-GLOBAL ID：200902248758846893   整理番号：05A0765577

高分子液晶を用いた片側パターン電極による選択的研磨制御(第1報,ERスラリーのER効果と研磨特性)

Selective Polishing Using Liquid Crystalline Polymer on One-Sided Patterned Electrodes (1st Report, ER Effect of ER Slurry and its Characteristics for Polishing)

著者 (5件)： 菊池武士 (大阪府産業技総研) ,  藤原順介 (大阪大 大学院工学研究科) ,  古荘純次 (大阪大 大学院工学研究科) ,  川向良平 (シャープ) ,  井上昭夫 (ERテック)
資料名： 日本機械学会論文集 C編  (Transactions of the Japan Society of Mechanical Engineers. Series C)
巻： 71  号： 708  ページ： 2629-2634  発行年： 2005年08月25日 
JST資料番号： F0045B  ISSN： 0387-5024  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 工業製品における要求精度の向上,寸法の微細化により,従来の加...

シソーラス用語： *高分子液晶 ,...
準シソーラス用語： 電気粘性流体

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分類 (1件)： 研削  (QC03000R)

引用文献 (10件)：

• KURIYAGAWA, T. Electrorheological fluid-assisted ultra-precision polishing for small three-dimensional parts. Journal of the International Societies for Precision Engineering and Nanotechnology. 1995, 26, 370-380
• YAMAGUCHI, H. Study of the surface modification resulting from an internal magnetic abrasive finishing process. WEAR. 1999, 225-229, 246-255
• KIKUCHI, T. Polishing Using ER Slurry on One-sided Patterned Electrodes. Proceedings of the 9th Internatinal Conference on ER Fluids and MR Suspensions
• 古荘純次. ER流体を用いたメカトロニクス機器の制御. 計測と制御. 1995, 34, 9, 687-691
• 古荘純次. 解説 : ER流体を用いたメカトロニクスシステム. 日本油空圧学会誌フルイドパワーシステム. 2001, 32, 6, 390-395

タイトルに関連する用語 (5件)： 高分子液晶 ,  研磨 ,  Er ,  スラリー ,  研磨特性