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J-GLOBAL ID：200902251357152350   整理番号：09A1003299

位相マスクを用いた多光束干渉による3次元周期構造の作製と評価

著者 (6件)： 蝦名渉 (北大 電子科研) ,  西島喜明 (北大 電子科研) ,  MIZEIKIS Vygantas (静大 電子研) ,  上野貢生 (北大 電子科研) ,  JUODKAZIS Saulius (北大 電子科研) ,  三澤弘明 (北大 電子科研)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 70th  号： 3  ページ： 966  発行年： 2009年09月08日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *周期構造 ,  *パターン形成 ,  *光干渉法 ,  三次元 ,  マスク ,  レーザビーム ,  フェムト秒 ,  *光重合型樹脂 ,  *電子ビームリソグラフィー ,  スパッタリング ,  基板 ,  ガラス ,  酸化チタン ,  保護膜 ,  フォトレジスト
準シソーラス用語： 位相マスク

分類 (3件)： 光デバイス一般  (BD06010L) ,  干渉測定と干渉計  (BD07070G) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： 位相 ,  マスク ,  3次元 ,  周期構造 ,  作製 ,  評価