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J-GLOBAL ID：200902252573705930   整理番号：08A0279689

ブロック共重合体薄膜からのアスペクト比可変のメソ細孔性シリカナノロッドの高秩序アレイ

Highly Ordered Arrays of Mesoporous Silica Nanorods with Tunable Aspect Ratios from Block Copolymer Thin Films

著者 (5件)： CHEN Aihua (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN) ,  KOMURA Motonori (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN) ,  KAMATA Kaori (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN) ,  IYODA Tomokazu (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN) ,  IYODA Tomokazu (JST-CREST, Saitama, JPN)
資料名： Advanced Materials  (Advanced Materials)
巻： 20  号： 4  ページ： 763-767  発行年： 2008年02月18日 
JST資料番号： W0001A  ISSN： 0935-9648  CODEN： ADVMEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポリ[11-[4-(4-ブチルフェニルアゾ)-フェノキシル]ウンデシルメタクリル酸エステル](PMAAz)-b-ポリエチレンオキシド(PEO)共重合体薄膜を溶液のスピンコートによりケイ素基板上に作製し,TEOS/CTAB水溶液に浸漬し,電子ビーム照射により橋かけした。PEO領域が擬六方晶柱状ドメインを形成し,ケイ素化合物は選択的にPEOドメインにドープされ,テンプレート高分子層の加熱除去により柱状のシリカアレイが得られた。原子間力顕微鏡,小角X線散乱,電界放出走査電子顕微鏡および透過型電子顕微鏡によりキャラクタリゼーションを行った。

シソーラス用語： *高分子薄膜 ,  ポリメタクリル酸エステル ,  ポリエチレンオキシド ,  *ブロック共重合体 ,  *ミクロ相分離 ,  多孔質体 ,  アスペクト比 ,  *ナノロッド ,  アレイ ,  電子照射 ,  *鋳型効果 ,  原子間力顕微鏡 ,  小角X線散乱 ,  走査電子顕微鏡 ,  透過型電子顕微鏡 ,  *ナノ構造 ,  *表層構造 ,  脂肪族アミン ,  第四アンモニウム ,  脂肪族アルコール ,  無機酸エステル ,  *二酸化ケイ素
準シソーラス用語： *シリカ ,  *ドメイン構造 ,  メソ細孔性シリカ

分類 (3件)： 塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L)

物質索引 (3件)： CTAB ,  TEOS ,  メタクリル酸11-[4-(4-ブチルフェニルアゾ)フェノキシ]ウンデシル

タイトルに関連する用語 (7件)： ブロック共重合体 ,  薄膜 ,  アスペクト比 ,  可変 ,  メソ細孔性シリカ ,  ナノロッド ,  アレイ