文献

J-GLOBAL ID：200902253390250212   整理番号：05A0868384

混晶生成による光反応性の調節 III トポ化学的に不利な配座への変化による光異性化の遅延

Modified Photoreactivity Due to Mixed Crystal Formation. III. Decelerated Photoisomerization upon Topochemically Unfavorable Conformational Change

著者 (4件)： VITHANA Champika (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  UEKUSA Hidehiro (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  SEKINE Akiko (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  OHASHI Yuji (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
資料名： Crystal Growth & Design  (Crystal Growth & Design)
巻： 5  号： 5  ページ： 1755-1760  発行年： 2005年09月 
JST資料番号： W1323A  ISSN： 1528-7483  CODEN： CGDEFU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 混晶生成による配座変化に基づく反応性の制御のため,trans...

シソーラス用語： *コバルト錯体 ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=05A0868384&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=W1323A") }}

分類 (2件)： 光化学反応  (CB08020F) ,  遷移金属元素(鉄族元素を除く)の錯体の結晶構造  (BK09030X)

物質索引 (5件)： プロピオニトリル ,  ブチロニトリル ,  バレロニトリル ,  ジメチルグリオキシム ,  アニリン

タイトルに関連する用語 (7件)： 混晶 ,  光反応性 ,  調節 ,  化学 ,  配座 ,  光異性化 ,  遅延