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J-GLOBAL ID：200902254837621325   整理番号：05A0413131

プラズマ前処理した磁気層上に堆積した極薄B-C-N保護膜のミクロトライボロジー特性

Microtribological properties of B-C-N extremely thin protective films deposited on plasma pretreated magnetic layers

著者 (4件)： MIYAKE Shojiro (Nippon Inst. of Technol., Miyashiro, JPN) ,  WANG Mei (Nippon Inst. of Technol., Miyashiro, JPN) ,  SAITOH Tadashi (Nippon Inst. of Technol., Miyashiro, JPN) ,  WATANABE Shuichi (Nippon Inst. of Technol., Miyashiro, JPN)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 195  号： 2/3  ページ： 214-226  発行年： 2005年05月31日 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： CoCrTa磁気ディスク上に堆積した極薄B-C-N保護膜のミ...

シソーラス用語： 保護膜 ,...
準シソーラス用語： プラズマプロセシング ,...

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分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  潤滑一般  (QB02010S)

タイトルに関連する用語 (7件)： プラズマ ,  前処理 ,  磁気層 ,  堆積 ,  極 ,  保護膜 ,  トライボロジー特性