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J-GLOBAL ID：200902256067339238   整理番号：05A0426716

超臨界流体を用いた微細構造上への酸化物薄膜の堆積

著者 (3件)： 清水貴思 (産業技術総合研) ,  石井賢一 (産業技術総合研) ,  鈴木英一 (産業技術総合研)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 52nd  号： 2  ページ： 727  発行年： 2005年03月29日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *SOI構造 ,...

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分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 超臨界流体 ,  微細構造 ,  酸化物薄膜 ,  堆積