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J-GLOBAL ID:200902256758719037   整理番号:08A1104156

MnxPナノワイアーの自己組織化成長とキャラクタリゼイション

Self-Assembled Growth and Characterization of MnxP Nanowires
著者 (6件):
資料名:
巻: 47  号: 10 Issue 2  ページ: 8214-8217  発行年: 2008年10月25日 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  CODEN: JJAPB6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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準備的な蒸着金属触媒無しで,MnPナノワイアをInP(100)及びGaAs(111)B基板上に分子ビームエピタキシー(MBE)によって成長させた。Mnは従来型のクヌッセンセルを用いて供給し,P2は分解セルを用いた第3ブチルフォスフィン(TBP)の分解によってガスとして供給した。基板温度が430°Cを越えると,ナノワイアの自己組織化成長が観察された。InP(100)表面上に作製したナノワイアは,150nmに近い直径と2μmまでの長さを持つ。一方,GaAs(111)B表面上に成長させたナノワイアは600nmまでの幅,30μmまでの長さ,並びに明瞭な原子面を持つ。磁気的並びに光学的評価も実施した。(翻訳著者抄録)
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引用文献 (18件):
  • W. Lu and C. M. Lieber: J. Phys. D 39(2006) R387.
  • H. J. Fan, P. Werner, and M. Zacharias: Small 2(2006)700.
  • R. S. Wagner: Whisker Technology (Wiley, New York, 1970).
  • K. Hiruma, M. Yazawa, T. Katsuyama, K. Ogawa, K. Haraguchi, and M. Koguchi: J. Appl. Phys.77(1995)447.
  • C. J. Novotny and P. K. L. Yu: Appl. Phys. Lett.87(2005)203111.
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