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J-GLOBAL ID：200902258625666197   整理番号：09A0152921

水分解用の不均一な光触媒材料

Heterogeneous photocatalyst materials for water splitting

著者 (2件)： KUDO Akihiko (Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN) ,  MISEKI Yugo (Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN)
資料名： Chemical Society Reviews  (Chemical Society Reviews)
巻： 38  号： 1  ページ： 253-278  発行年： 2009年01月 
JST資料番号： D0479B  ISSN： 0306-0012  CODEN： CSRVBR  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本レビューでは,化学量論量でH₂とO₂に水分解し,犠牲的な試薬を含有する水溶液からH₂とO₂を発生するための,金属酸化物,金属(オキシ)硫化物および金属(オキシ)窒化物の不均一な光触媒材料に焦点を当てた。光触媒の水分解の基礎を解釈した後,不均一な光触媒材料を概観した。光触媒性能および光触媒設計の戦略に影響を与える要因を一般的視点を通して考察した。有機化合物の分解等の他の光触媒反応への幾つかの新開発光触媒の応用もまた紹介した。1)光触媒の水分解の基礎(光触媒の水分解に於ける工程,犠牲的系に於ける光触媒性H₂とO₂を発生),2)水分解用の実験方法(注意すべき点,実験セットアップ),3)不均一な光触媒材料を構成する元素の一般的な見解,4)紫外線照射下での水分解用のワイドバンドギャップの金属酸化物(d⁰金属カチオンからなる酸化物光触媒,d⁰金属酸化物の光触媒能力に影響する要因(光触媒性能に及ぼすNb 4dおよびTa 5d軌道から成る伝導帯レベルの影響,エネルギー構造に及ぼす結晶構造枠組みのゆがみの影響,活性部位の創成に及ぼす形態の影響),d¹⁰金属カチオンから成る酸化物光触媒),5)紫外線照射下で犠牲的試薬含有水溶液からのH₂またはO₂を発生用のワイドバンドギャップ金属酸化物光触媒,6)犠牲的試薬含有水溶液からH₂またはO₂を発生用の可視光応答を持つ光触媒(酸化物光触媒,(オキシ)窒化物/(オキシ)硫化物光触媒),7)可視光照射下で水分解用の光触媒系(d¹⁰金属窒化物,Z-スキーム系(2光子工程)),8)犠牲的試薬含有水溶液からH₂発生用の可視光応答を持つ金属硫化物光触媒(天然可視光駆動光触媒,ドープした光触媒,固溶体光触媒)。

シソーラス用語： *光触媒 ,  *分解反応 ,  化学量論 ,  試薬 ,  水溶液 ,  水素 ,  酸素 ,  同時発生 ,  金属酸化物 ,  硫化物 ,  窒化物 ,  触媒設計 ,  紫外線照射 ,  バンドギャップ ,  ニオブ化合物 ,  タンタル化合物 ,  伝導バンド ,  触媒活性 ,  結晶構造 ,  ゆがみ ,  活性部位 ,  可視光 ,  応答 ,  ドーピング ,  固溶体 ,  *不均一系触媒 ,  *水分解 ,  ワイドバンドギャップ ,  触媒活性部位
準シソーラス用語： 犠牲試薬 ,  光応答

分類 (5件)： 光化学反応  (CB08020F) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  塩  (CD01050V) ,  分解反応  (CF02080P) ,  不均一系触媒反応  (CB06100E)

タイトルに関連する用語 (2件)： 水分解 ,  光触媒材料