高密度セラミックターゲットを使ったSrTiO3基板上への高品質(K,Na)NbO3薄膜のパルスレーザ堆積

文献

J-GLOBAL ID：200902258811776342 整理番号：04A0794093

高密度セラミックターゲットを使ったSrTiO₃基板上への高品質(K,Na)NbO₃薄膜のパルスレーザ堆積

Pulsed Laser Deposition of High-Quality (K,Na)NbO₃ Thin Films on SrTiO₃ Substrate Using High-Density Ceramic Targets

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巻： 43 号： 9B ページ： 6627-6631 発行年： 2004年09月30日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

パルスレーザ堆積法により(100)SrTiO3<...

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薄膜成長技術・装置 , その他の無機化合物の薄膜

引用文献 (12件)：

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