Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN について
TANABE K について
Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN について
NOGUCHI H について
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Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN について
Journal of Physical Chemistry B について
レーザ励起 について
ヒドロキシル基 について
合成鉱物 について
物理的手法を用いた吸着の研究 について
アルケン について
(2H4)エテン について
ピコ秒 について
赤外 について
パルス について
励起 について
ゼオライト について
ヒドロキシル基 について
吸着 について
オレフィン について
過程 について
振動緩和 について
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脱着 について