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J-GLOBAL ID：200902263463153410   整理番号：08A1105704

MIR-FTIR(多重内部反射Fourier変換赤外)で調べたα,β-不飽和カルボキシル基で修飾したSi(111)表面

Si(111) Surface Modified with α,β-Unsaturated Carboxyl Groups Studied by MIR-FTIR

著者 (5件)： IMANISHI Akihito (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  IMANISHI Akihito (JST-CREST, Saitama, JPN) ,  YAMANE Satoshi (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  NAKATO Yoshihiro (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  NAKATO Yoshihiro (JST-CREST, Saitama, JPN)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 24  号： 19  ページ： 10755-10761  発行年： 2008年10月07日 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Si表面の安定化のため,アルキル基による修飾が多く報告されている。また官能基を持つアルキル基による修飾は光電気化学特性に影響し,官能基の電荷は電気二重層を形成することができ,Si電極の平面バンド電位をシフトさせ得る。Yazaki等は,α,β-不飽和カルボキシル基修飾Si(111)表面を調製(J.Mater.Chem.Vol.15,p.4906-(2005))した。この方法は穏和で効率が高く,また簡便な方法である。しかし修飾表面の構造の詳細は明らかではない。そこでプロピオル酸およびプロピオル酸メチルエステルのヒドロシリル化反応による活性アルキンを用いて,α,β-不飽和カルボキシル基修飾Si(111)表面を調製し,その特性を調べた。プロピオル酸メチルエステルの場合は,塩酸により加水分解した。Si-2pおよびC-1sの二つのX線光電子分光ピーク強度からは,カルボキシル基の被覆率はおよそ55~60%と推定された。表面構造をMIR-FTIRにより調べたところ,プロピオル酸メチルエステルの場合加水分解は完結していないことが示され,表面の加水分解されにくい特性を示した。また,この反応は室温で可視光照射により促進された。このように穏和な条件でSi表面を官能基修飾できることから,この修飾反応は容易に損傷を受ける機能デバイスに適していることを述べた。

シソーラス用語： *内部反射 ,  *FTIR分光法 ,  不飽和脂肪酸 ,  光電気化学 ,  電気二重層 ,  表面電位 ,  *化学修飾 ,  *構造 ,  ヒドロシリル化 ,  加水分解 ,  X線光電子分光法 ,  被覆率 ,  光照射 ,  機能素子 ,  アセチレン化合物 ,  *二酸化ケイ素
準シソーラス用語： *シリカ

分類 (2件)： 固-気界面一般  (CB12041H) ,  非金属化合物  (CD01070R)

物質索引 (2件)： プロピオル酸 ,  プロピオル酸メチル

タイトルに関連する用語 (10件)： MIR ,  FTIR ,  多重 ,  内部反射 ,  Fourier変換 ,  赤外 ,  不飽和 ,  カルボキシル基 ,  修飾 ,  Si