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J-GLOBAL ID:200902263800910768   整理番号:06A0183374

インコネル基板上に作製した配向性AlN薄膜の高温高圧応答性

High Temperature and High Pressure Response of Aluminum Nitride Thin Films Prepared on Inconel Substrates
著者 (5件):
資料名:
巻: 114  号: 1327  ページ: 296-298  発行年: 2006年03月01日 
JST資料番号: F0382A  ISSN: 0914-5400  CODEN: JCSJEW  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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分類 (2件):
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計測機器一般  ,  金属材料へのセラミック被覆 
引用文献 (10件):
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