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J-GLOBAL ID：200902265290928023   整理番号：09A0270161

ナノリソグラフィーと酸素プラズマエッチングによる高度配向パイログラファイトとガラス状炭素の表面のパターン形成

Patterning of highly oriented pyrolytic graphite and glassy carbon surfaces by nanolithography and oxygen plasma etching

著者 (3件)： FREDRIKSSON H. (Dep. of Applied Physics, Chalmers Univ. of Technol., 41296 Gothenburg, SWE) ,  CHAKAROV D. (Dep. of Applied Physics, Chalmers Univ. of Technol., 41296 Gothenburg, SWE) ,  KASEMO B. (Dep. of Applied Physics, Chalmers Univ. of Technol., 41296 Gothenburg, SWE)
資料名： Carbon  (Carbon)
巻： 47  号： 5  ページ： 1335-1342  発行年： 2009年04月 
JST資料番号： H0270B  ISSN： 0008-6223  CODEN： CRBNA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ここでは,ガラス状炭素(GC)と高度配向パイログラファイト(HOPG)の基底面の2タイプの炭素の表面上のナノ構造の作製プロセスを示す。穴-マスクのコロイド性リソグラフフィーを使用して,2つの表面タイプのそれぞれ上に3種の異なる特性径を持つエッチングマスクを調製した。次に,種々の持続時間の酸素反応性イオンエッチングを用いて,マスクパターンを表面に転写して,直径40~470nmで,高さ30~430nmのナノ柱を形成した。その構造は原子間力顕微鏡や走査電子顕微鏡,分光分析を使用して特性化した。2つの材料に適用した同一の調製方法が,著しく異なる構造特性を持つナノ構造をもたらした。一般に,GC構造は,同じプラズマ条件で調製したHOPG構造より高くて,細長い。ナノ構造寸法と対応するエッチング時間から,進行方向と水平方向のエッチング速度は,HOPGでは0.19と0.015nm/sであり,GCでは0.65と0.15nm/sと推定する。この異なる速度は酸素プラズマ中の2つの材料の異なった(異方性)等方性エッチング挙動の結果と考えられる。さらに,光学的特性化はナノ構造の結果としての表面反射率の興味ある変化を明らかにする。Copyright 2009 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ガラス状炭素 ,  *高配向性熱分解グラファイト ,  ナノ構造 ,  ナノテクノロジー ,  パターン形成 ,  リソグラフィー ,  プラズマエッチング ,  構造解析

分類 (2件)： 炭素とその化合物  (YB02060D) ,  セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

タイトルに関連する用語 (8件)： ナノリソグラフィー ,  酸素プラズマ ,  エッチング ,  高度 ,  配向 ,  パイログラファイト ,  ガラス状炭素 ,  パターン形成