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J-GLOBAL ID：200902265890365413   整理番号：08A0840655

カソードマグネトロンプラズマ処理を用いて窒素をドープしたTiO₂薄膜の光触媒活性

Photocatalytic activity of TiO₂ thin films doped with nitrogen using a cathodic magnetron plasma treatment

著者 (7件)： YAMADA Kenji (Dep. of Materials Sci. and Chemical Engineering, Kitakyushu National Coll. of Technol., 5-20-1 Shii, Kokuraminami-ku ...) ,  YAMANE Hirokazu (Dep. of Materials Sci. and Chemical Engineering, Kitakyushu National Coll. of Technol., 5-20-1 Shii, Kokuraminami-ku ...) ,  MATSUSHIMA Shigenori (Dep. of Materials Sci. and Chemical Engineering, Kitakyushu National Coll. of Technol., 5-20-1 Shii, Kokuraminami-ku ...) ,  NAKAMURA Hiroyuki (Dep. of Materials Sci. and Chemical Engineering, Kitakyushu National Coll. of Technol., 5-20-1 Shii, Kokuraminami-ku ...) ,  SONODA Tatsuhiko (Dep. of Materials Sci. and Chemical Engineering, Kitakyushu National Coll. of Technol., 5-20-1 Shii, Kokuraminami-ku ...) ,  MIURA Satoshi (Dep. of Materials Sci. and Chemical Engineering, Kitakyushu National Coll. of Technol., 5-20-1 Shii, Kokuraminami-ku ...) ,  KUMADA Kiyoshi (Dep. of Materials Sci. and Chemical Engineering, Kitakyushu National Coll. of Technol., 5-20-1 Shii, Kokuraminami-ku ...)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 516  号： 21  ページ： 7560-7564  発行年： 2008年09月01日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 窒素ドーピングを実現するために高密度のプラズマを発生できるマグネトロン窒素プラズマ装置を使用して,TiO₂膜を処理する。膜は13.56MHzで運転する高周波数ジェネレータで30~100Wの放電電力の窒素プラズマにより5min処理する。プラズマで処理した膜は約400~500nmの範囲の可視光吸収を示す。また,高い放出パワーでプラズマ処理した膜では約500nm以上での光吸収も観察される。膜のN₁とTi_2pX線光電子スペクトルから,Ti-N結合と酸素欠損の形成が確認される。膜の光触媒作用の可視光活性は,放出パワーの増加に従って増加して,次に減少する。可視光活性のそのような増加と減少はそれぞれTi-N結合と酸素欠損の生成のためである。最適なプラズマ処理によって可視光活性は改良される。Copyright 2008 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *光触媒 ,  *酸化チタン ,  ドーパント ,  窒素 ,  ドーピング ,  プラズマCVD ,  電力 ,  エネルギー依存性 ,  触媒活性 ,  可視光 ,  光吸収

分類 (3件)： 光化学一般  (CB08010U) ,  触媒操作  (XE01050T) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (5件)： 窒素 ,  ドープ ,  TiO2 ,  薄膜 ,  光触媒活性