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J-GLOBAL ID：200902266315246379   整理番号：08A0565398

アクリロニトリル液体を使った電気化学堆積により成長させた窒化炭素膜の組成と結合特性

Composition and Bonding Properties of Carbon Nitride Films Grown by Electrochemical Deposition Using Acrylonitrile Liquid

著者 (4件)： KIYOTA Hideo (Kyushu Tokai Univ., Kumamoto, JPN) ,  GAMO Hidenori (Toppan Printing Co., Ltd., Saitama, JPN) ,  NISHITANI-GAMO Mikka (Toyo Univ., Saitama, JPN) ,  ANDO Toshihiro (National Inst. Materials Sci., Ibaraki, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 47  号： 2 Issue 1  ページ： 1050-1055  発行年： 2008年02月25日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： アクリロニトリル液体中に浸漬したSi基板にバイアス電圧をかけて,窒化炭素膜を電気化学的に成長させた。負と正のバイアス電圧をかけると,いずれも連続で一様な膜が成長した。成長した膜のX線光電子スペクトル(XPS)を調べ,それらの組成と結合配置を明らかにした。XPSスペクトルは,成長膜の主要成分としてC,NおよびO原子が存在することを示している。膜中,炭素に対する窒素の原子比は0.16-0.28と評価した。これは従来型の蒸着法で成長させた非晶質窒化炭素(a-CN_x)膜の場合に匹敵する。C1sとN1sのスペクトルを分析して,成長した膜の主要な結合状態はC≡Nと水素化C=N結合が混合したものに帰属した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *炭素化合物 ,  *窒化物 ,  バイアス ,  *電気化学反応 ,  *薄膜成長 ,  X線光電子スペクトル ,  蒸着膜 ,  非晶質 ,  二重結合 ,  三重結合 ,  ビニル化合物 ,  脂肪族ニトリル ,  *窒化炭素

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

物質索引 (1件)： アクリロニトリル

引用文献 (26件)：

• A. Y. Liu and M. Cohen: Science 245(1989)841.
• S. Muhl and J. M. Mendez: Diamond Relat. Mater.8(1999)1809.
• H. Wang, M. R. Shen, Z. Y. Ning, C. Ye, C. B. Cao, H. Y. Dang, and H. S. Zhu: Appl. Phys. Lett.69(1996)1074.
• H. Kiyota, H. Araki, H. Kobayashi, T. Shiga, K. Kitaguchi, M. Iida, H. Wang, T. Miyo, T. Takida, T. Kurosu, K. Inoue, I. Saito, M. Nishitani-Gamo, I. Sakaguchi, and T. Ando: Appl. Phys. Lett.75(1999)2331.
• H. Kiyota, M. Higashi, T. Kurosu, and M. Iida: J. Appl. Phys.99(2006)094903.

タイトルに関連する用語 (6件)： アクリロニトリル ,  電気化学堆積 ,  成長 ,  窒化 ,  炭素膜 ,  組成