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J-GLOBAL ID：200902266425300115   整理番号：09A0717203

フルオロカーボンエッチプラズマ中の気相化学と表面過程の関係

Relationship between gas-phase chemistries and surface processes in fluorocarbon etch plasmas: A process rate model

著者 (4件)： SANT S. P. (Electrical Engineering, Univ. of Texas at Dallas, 800 W Campbell, Richardson, Texas 75080) ,  NELSON C. T. (Electrical Engineering, Univ. of Texas at Dallas, 800 W Campbell, Richardson, Texas 75080) ,  OVERZET L. J. (Electrical Engineering, Univ. of Texas at Dallas, 800 W Campbell, Richardson, Texas 75080) ,  GOECKNER M. J. (Electrical Engineering, Univ. of Texas at Dallas, 800 W Campbell, Richardson, Texas 75080)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 27  号： 4  ページ： 631  発行年： 2009年07月 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 典型的なプラズマ装置ではエッチと堆積が同時に生じる。エッチと堆積の過程の一般的モデルの開発を支援するために,広範な実測を利用した。このモデルは反応確率,即ち表面平均断面積,を用いて測定可能な表面過程(エッチと堆積)を表面への種々の種のフラックスに関係付ける。断面積の性格は量子力学的であるので,この表面速度モデルは多くの低温プラズマ処理装置に適用できる。また,反応断面積で重要であると思われるパラメータは量子力学から分かる,例えば種,エネルギー,温度,衝突角。これらのパラメータは系ごとに異なる可能性があり,プラズマ装置で観測される広いプロセス変動の原因になる。モデルは放電で現れる種々のラジカルに対する利得/損失速度の計算及び測定したエッチ及び堆積速度と一致することが分かった。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *脂肪族フッ素化合物 ,  プラズマ ,  *プラズマエッチング ,  断面積 ,  量子論 ,  パラメータ推定 ,  変動 ,  ラジカル ,  プラズマ曝露 ,  モデル ,  *半導体プロセス
準シソーラス用語： *フルオロカーボン ,  反応断面積 ,  プロセス変動

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： 気相 ,  化学 ,  過程