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J-GLOBAL ID：200902266739734969   整理番号：08A0675533

ArF露光中のPAG(光酸発生剤)からの酸発生速度定数の測定技法

Techniques for Measuring Rate Constants for Acid Generation from PAG (Photo Acid Generator) during ArF Exposure

著者 (4件)： SEKIGUCHI Atsushi (Litho Tech Japan Corp., Saitama, JPN) ,  KONO Yoshiyuki (Litho Tech Japan Corp., Saitama, JPN) ,  ODA Fumihiko (Ushio Inc, Hyogo, JPN) ,  MORIMOTO Yukihiro (Ushio Inc, Hyogo, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 21  号： 1  ページ： 69-73  発行年： 2008年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 著者らは先に化学増幅レジストをUV光(248nm)に当てKrFエキシマレーザによるPAGの光分解を観察するため現場FT-IR測定を実施した。これらの観察に基づきPAG光分解に伴う酸発生の速度定数を測定した。最近193-nmエキシレーザ(ウシオで開発)を設置し193-nm光を使った世界最初の現場PAG光分解観察を実施した。本報告はArFによるPAGからの酸発生速度定数を成功裏に測定したことを記述した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： FTIR分光法 ,  *光分解 ,  *光酸発生剤 ,  化学増幅レジスト ,  エキシマレーザ ,  フッ化クリプトン ,  反応速度定数 ,  紫外線 ,  露光

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (3件)： トリフェニルスルホニウム ,  トリフルオロメタンスルホナート ,  メタクリル酸(1S,7S)-トリシクロ[5.2.1.0^2,6]デカン-9β-イル

引用文献 (13件)：

• H. Ito, and C. G. Willson: ASC Symp. Ser.2(1984)11.
• J. V. Crivello, and J. H. W. Lam: Macromolecules 10(1977)1307.
• G. Pawlowski, R. Dammel, and C. R. Lindley: Proc. SPIE 1262(1990)16.
• R. D. Allen, I. Y. Wan, G. M. Wallraff, R. A. Dipietro, and D. C. Hofer: Proc. SPIE 1262(1990)412.
• A. Sekiguchi, M. Isono and T. Matsuzawa: Jpn. J. Appl. Phys.38(1999)4936.

タイトルに関連する用語 (6件)： ARF ,  露光 ,  光酸発生剤 ,  酸 ,  速度定数 ,  技法