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J-GLOBAL ID：200902269872756060   整理番号：08A0404748

高分子ナノシート集合体によるナノメータからマイクロメータまでの大域的厚さをもつ自立超薄膜

Free-standing ultrathin films with universal thickness from nanometer to micrometer by polymer nanosheet assembly

著者 (3件)： ENDO Hiroshi (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  MITSUISHI Masaya (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  MIYASHITA Tokuji (Tohoku Univ., Sendai, JPN)
資料名： Journal of Materials Chemistry  (Journal of Materials Chemistry)
巻： 18  号： 12  ページ： 1302-1308  発行年： 2008年03月28日 
JST資料番号： W0204A  ISSN： 0959-9428  CODEN： JMACEP  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高分子ナノシートを用いて高配向構造及びナノスケールの周期性をもつ自立超薄膜を調製した。Langmuir-Blodgett(LB)法により,水面上に密にパックされた高分子(N-ドデシルアクリルアミドポリマ)単分子層の形成を可能にした。単分子層中アクリルアミド高分子はアミド基の水素結合により強く会合し,二次元ネットワーク(高分子ナノシート)を形成する。その単分子層はLB法により700層以上までも規則的沈着により基板上に多重層として転送され得る。予備的犠牲層は基板上沈着高分子多重層から溶出除去し,層数に依存する均一厚さの自立膜を得た(最小厚さ3.3nm,二分子層)。

シソーラス用語： *ナノ構造 ,  分子集合体 ,  高分子 ,  *超薄膜 ,  Langmuir-Blodgett膜 ,  水素結合 ,  ネットワーク ,  二次元 ,  *ナノシート ,  *自立膜
準シソーラス用語： LB膜

分類 (2件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

物質索引 (1件)： N-ドデシルアクリルアミド

タイトルに関連する用語 (7件)： 高分子 ,  ナノシート ,  集合体 ,  ナノメータ ,  マイクロメータ ,  自立 ,  超薄膜