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J-GLOBAL ID：200902271101339390   整理番号：05A0995542

表面波プラズマCVDにより蒸着した非晶質炭素薄膜の特性化

Characterization of amorphous carbon films deposited by surface wave plasma CVD
著者 (2件)：
AKASAKA Hiroki

AKASAKA Hiroki について

(Dep. of Mechanical Sciences and Engineering, Tokyo Inst. of Technol., 2-12-1 O-Okayama, Meguro-ku, Tokyo, 152-8552, JPN)

Dep. of Mechanical Sciences and Engineering, Tokyo Inst. of Technol., 2-12-1 O-Okayama, Meguro-ku, Tokyo, 152-8552, JPN について

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OHTAKE Naoto

OHTAKE Naoto について

(Dep. of Mechanical Sciences and Engineering, Tokyo Inst. of Technol., 2-12-1 O-Okayama, Meguro-ku, Tokyo, 152-8552, JPN)

Dep. of Mechanical Sciences and Engineering, Tokyo Inst. of Technol., 2-12-1 O-Okayama, Meguro-ku, Tokyo, 152-8552, JPN について


資料名：
Diamond and Related Materials  (Diamond and Related Materials)

Diamond and Related Materials について


巻： 14  号： 11-12  ページ： 1828-1831  発行年： 2005年11月 
JST資料番号： W0498A  ISSN： 0925-9635  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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水素化非晶質炭素(a-C:H)薄膜の多くのダングリングボンド...
シソーラス用語：
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表面波

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分類 (2件)：
分類
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その他の無機化合物の薄膜 
(BK14060A)

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(YB02060D)

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物質索引 (1件)：
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CVD

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蒸着

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炭素薄膜

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特性化

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