KLEIN C. について
IMS Nanofabrication AG, Vienna, AUT について
PLATZGUMMER E. について
IMS Nanofabrication AG, Vienna, AUT について
LOESCHNER H. について
IMS Nanofabrication AG, Vienna, AUT について
GROSS G. について
IMS Nanofabrication AG, Vienna, AUT について
DOLEZEL P. について
Delong Instruments, Brno, CZE について
TMEJ M. について
Delong Instruments, Brno, CZE について
KOLARIK V. について
Delong Instruments, Brno, CZE について
KLINGLER W. について
Inst. Mikroelektronik Stuttgart-ims chips, Stuttgart, DEU について
LETZKUS F. について
Inst. Mikroelektronik Stuttgart-ims chips, Stuttgart, DEU について
BUTSCHKE J. について
Inst. Mikroelektronik Stuttgart-ims chips, Stuttgart, DEU について
IRMSCHER M. について
Inst. Mikroelektronik Stuttgart-ims chips, Stuttgart, DEU について
WITT M. について
Fraunhofer Inst. Siliziumtechnologie, Itzehoe, DEU について
PILZ W. について
Fraunhofer Inst. Siliziumtechnologie, Itzehoe, DEU について
Proceedings of SPIE について
電子ビームリソグラフィー について
スループット について
多重化 について
原価低減 について
実証実験 について
実用化 について
分解能 について
ウエハ【IC】 について
フォトマスク について
多重露光 について
パターン形成 について
超小形回路技術 について
解像度強化技術 について
直接描画 について
固体デバイス製造技術一般 について
投射 について
マスク について
リソグラフィー について
概念 について
実証 について
設備 について
実験結果 について