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J-GLOBAL ID：200902271222192930   整理番号：08A0711158

投射マスク不要リソグラフィー(PML2): 概念実証設備と最初の実験結果

Projection Mask-Less Lithography (PML2): Proof-of-Concept Setup and first experimental Results

著者 (13件)： KLEIN C. (IMS Nanofabrication AG, Vienna, AUT) ,  PLATZGUMMER E. (IMS Nanofabrication AG, Vienna, AUT) ,  LOESCHNER H. (IMS Nanofabrication AG, Vienna, AUT) ,  GROSS G. (IMS Nanofabrication AG, Vienna, AUT) ,  DOLEZEL P. (Delong Instruments, Brno, CZE) ,  TMEJ M. (Delong Instruments, Brno, CZE) ,  KOLARIK V. (Delong Instruments, Brno, CZE) ,  KLINGLER W. (Inst. Mikroelektronik Stuttgart-ims chips, Stuttgart, DEU) ,  LETZKUS F. (Inst. Mikroelektronik Stuttgart-ims chips, Stuttgart, DEU) ,  BUTSCHKE J. (Inst. Mikroelektronik Stuttgart-ims chips, Stuttgart, DEU) ,  IRMSCHER M. (Inst. Mikroelektronik Stuttgart-ims chips, Stuttgart, DEU) ,  WITT M. (Fraunhofer Inst. Siliziumtechnologie, Itzehoe, DEU) ,  PILZ W. (Fraunhofer Inst. Siliziumtechnologie, Itzehoe, DEU)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 6921  号： Pt.1  ページ： 69211O.1-69211O.8  発行年： 2008年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 個々にアドレス可能な並列動作をする数千の電子ビームのうちから数百の電子ビームを使用する多重電子ビーム露光方式による,投射マスク不要のコスト効率が良いリソグラフィーの研究開発を述べた。多重ビームを使うことにより,スループットを実用的レベルに高め,32nmノードおよびそれより先のノードに使われることを目標としている。この投射マスク不要リソグラフィーの概念実証試験機を実現した。そこでは2000以上のスイッチ可能なビームが生成される。解像度は10nm以下を目指している。現在,32nmハーフピッチ構造のシリコンウエハ上への描画が実現されている。

シソーラス用語： *電子ビームリソグラフィー ,  スループット ,  多重化 ,  原価低減 ,  *実証実験 ,  実用化 ,  分解能 ,  ウエハ【IC】 ,  フォトマスク ,  *多重露光 ,  パターン形成 ,  超小形回路技術
準シソーラス用語： 解像度強化技術 ,  *直接描画

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (7件)： 投射 ,  マスク ,  リソグラフィー ,  概念 ,  実証 ,  設備 ,  実験結果