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J-GLOBAL ID：200902272571522502   整理番号：06A0781719

NbへのSi添加によるアノード酸化皮膜の結晶化抑制とその機構

著者 (7件)： 小笠原健 (北大 大学院) ,  幅崎浩樹 (北大 大学院) ,  伏見公志 (北大 大学院) ,  金野英隆 (北大 大学院) ,  清水健一 (慶応大) ,  永田晋二 (東北大 金属材料研) ,  泉知夫 (キャボットスーパーメタル)
資料名： 電気化学秋季大会講演要旨集  (電気化学合同秋季大会講演要旨集)
巻： 2006  ページ： 334  発行年： 2006年 
JST資料番号： X0038A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ニオブ ,...
準シソーラス用語： *陽極酸化 ,...

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分類 (1件)： 電気化学反応  (CB07050F)

タイトルに関連する用語 (4件)： Nb ,  Si ,  アノード酸化皮膜 ,  結晶化