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J-GLOBAL ID：200902273096963481   整理番号：08A0626857

光学的近接場および遠方場における偏光とそのナノ構造の形状およびレイアウトとの関係

Polarization in optical near and far fields and its relation to shape and layout of nanostructures

著者 (5件)： NARUSE M. (National Inst. of Information and Communications Technol., 4-2-1 Nukui-kita, Koganei, Tokyo 184-8795, JPN) ,  YATSUI T. (Dep. of Electrical Engineering and Information Systems, School of Engineering, The Univ. of Tokyo, 2-11-16 Yayoi ...) ,  HORI H. (Univ. of Yamanashi, 4-3-11 Takeda, Kofu, Yamanashi 400-8511, JPN) ,  YASUI M. (Dep. of Electrical Engineering and Information Systems, School of Engineering, The Univ. of Tokyo, 2-11-16 Yayoi ...) ,  OHTSU M. (Dep. of Electrical Engineering and Information Systems, School of Engineering, The Univ. of Tokyo, 2-11-16 Yayoi ...)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 103  号： 11  ページ： 113525  発行年： 2008年06月01日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノ構造工学により,それぞれ素子形状およびレイアウト因子と呼ばれる要素構造の個々の形状と配置に焦点を合わせ,光学的近接場と遠方場の偏光制御を議論する。これらの因子をそれぞれ,素子形状内に誘導される電流および,要素形状間の光学的近接場と物理的に関係付け,次いでこれらをフローベクトル概念を用いて統一的に偏光性質と関連付けする。本提案の枠組みは,光学的近接場および遠方場における偏光を直感的に説明し,レイアウト依存性や形状の対称性の解析などを行う。光学的近接場の階層的性質と併せて,偏光制御デバイス用の三次元多層ナノ構造など,複雑な構造の設計にも助力となる。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *偏光 ,  *ナノ構造 ,  形態 ,  レイアウト ,  配置 ,  *近接場 ,  *遠方場 ,  対称性 ,  階層構造 ,  *近接場光学
準シソーラス用語： 階層性 ,  形状

分類 (1件)： 偏光,複屈折,光学回転  (BD03040X)

タイトルに関連する用語 (5件)： 光学 ,  近接場 ,  遠方場 ,  偏光 ,  ナノ構造