文献

J-GLOBAL ID：200902273576109154   整理番号：08A0944324

ナノ光リソグラフィーによるレジストナノパターンの形成

著者 (7件)： 高畠聡章 (北大 電子科研) ,  上野貢生 (北大 電子科研) ,  上野貢生 (JST-PRESTO) ,  西島喜明 (北大 電子科研) ,  MIZEIKIS Vygantas (北大 電子科研) ,  JUODKAZIS Saulius (北大 電子科研) ,  三澤弘明 (北大 電子科研)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 69th  号： 3  ページ： 1007  発行年： 2008年09月02日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *フォトリソグラフィー ,  *パターン形成 ,  フォトレジスト
準シソーラス用語： *ナノパターン形成 ,  ナノリソグラフィー

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： 光リソグラフィー ,  レジスト ,  ナノパターン