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J-GLOBAL ID：200902273717171975   整理番号：09A0805331

ナノインプリントテンプレート用のEBM-6000及びEBM-7000の分解能可能性

Resolution capability of EBM-6000 and EBM-7000 for Nano-imprint template

著者 (2件)： YOSHITAKE S. (NuFlare Technol., Inc., Yokohama, JPN) ,  KAMIKUBO T. (NuFlare Technol., Inc., Yokohama, JPN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 7470  ページ： 74700H.1-74700H.7  発行年： 2009年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノインプリントリソグラフィー(NIL)は次世代リソグラフィーの有力な候補である。ハーフピッチ≦32nm用のNILテンプレートの作製には,ぼけの少ない高分解能が必要である。本論文では分解能向上法として低電流密度(30A/cm²)を用いてEBM-6000の分解能拡張性を試験した。分解能向上には電子光学系の収差縮小も効果があった。また,電流密度200A/cm²下のEBM-7000の分解能を調べた。EBM-7000はEBM-6000よりも収差の小さい電子光学系と50kVの加速電圧を使用する。

シソーラス用語： *型 ,  押付成形 ,  空間分解能 ,  *電子ビームリソグラフィー ,  マスク ,  回路パターン形成 ,  半導体プロセス
準シソーラス用語： *ナノインプリントリソグラフィー ,  *テンプレート【型】 ,  ナノインプリント ,  電子ビーム描画

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： EBM ,  分解能 ,  可能性